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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
유선중 (삼성전기)
저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.26 No.11
발행연도
2009.11
수록면
77 - 84 (8page)

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Alignment error of the BGA lithography equipment is mainly caused by the dimensional change of the BGA panel which is generated during the manufacturing processes. To minimize the alignment error, ‘mark alignment’ algorithm in place of ‘center alignment’ algorithm was proposed and the optimal solution for the algorithm was derived by simple analytic form. The developed algorithm distributes evenly the alignment error over the whole panel which was evaluated by the numerical simulation. Finally, the developed algorithm was implemented to the controller of the lithography equipment and the alignment error was measured at the fiducial mark location. From the measurement, it is also concluded that the developed alignment algorithm be effective to reduce the maximum value of alignment error.
#BGA (볼그리드어레이) #Alignment (정렬) #Fiducial Mark (인식 마크) #Lithography (노광)

목차

1. 서론
2. 정렬 오차의 원인
3. 정렬 알고리즘
4. 정렬 알고리즘 비교
5. BGA 노광 장비 적용
6. 결론
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