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학술저널
저자정보
김상훈 (광운대학교) 윤명수 (광운대학교) 박종인 (광운대학교) 구제환 (광운대학교) 김인태 (광운대학교) 최은하 (광운대학교) 조광섭 (광운대학교) 권기청 (광운대학교)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제47권 제5호
발행연도
2014.10
수록면
227 - 232 (6page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2014

대기압 플라즈마의 선택적 도핑 공정에서 온도에 의한 인(Phosphorus)의 확산연구
김상훈 ,  윤명수 ,  박종인 외 5명 한국표면공학회지 2014.10 학술저널
대기압 플라즈마 도핑 공정 시 그라운드 형태에 따른 전류 패스 경향성 분석에 관한 연구
김상훈 ,  윤명수 ,  조태훈 외 5명 한국진공학회 학술발표회초록집 2014.02 학술대회자료

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In this study, we propose the application of doping process technology for atmospheric pressure plasma. The plasma treatment means the wafer is warmed via resistance heating from current paths. These paths are induced by the surface charge density in the presence of illuminating Argon atmospheric plasmas. Furthermore, it is investigated on the high-concentration doping to a selective partial region in P type solar cell wafer. It is identified that diffusion of impurities is related to the wafer temperature. For the fixed plasma treatment time, plasma currents were set with 40, 70, 120 mA. For the processing time, IR(Infra-Red) images are analyzed via a camera dependent on the temperature of the P type wafer. Phosphorus concentrations are also analyzed through SIMS profiles from doped wafer. According to the analysis for doping process, as applied plasma currents increase, so the doping depth becomes deeper. As the junction depth is deeper, so the surface resistance is to be lowered. In addition, the surface charge density has a tendency inversely proportional to the initial phosphorus concentration. Overall, when the plasma current increases, then it becomes higher temperatures in wafer. It is shown that the diffusion of the impurity is critically dependent on the temperature of wafers.
#Atmospheric pressure plasma #Temperature #Phosphorus #Surface resistance #Charge density #Junction depth #IR(Infra-Red) image

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과
4. 고찰
5. 결론
References

참고문헌 (9)

참고문헌 신청
1. [단행본] - J. A. Duffie / 2013 / Solar cell Engineering of thermal processes / John Wiley &Sons. Inc : 22 ~ google schola 2. [학술지(정기간행물)] - A. Schutze / 1998 / / IEEE Trans. PLASMA 26 : 1685 ~ google schola 3. [학술지(정기간행물)] - 조이현 / 2013 / 새로운 대기압 플라즈마 소스를 이용한 결정질 실리콘 태양전지 인(P) 페이스트 도핑에 관한 연구 / 신재생에너지 9 (2) : 23 ~ 29 dbpia 4. [학술지(정기간행물)] - G. S. Cho / 2011 / / IEEE Trans. PLASMA SCI 39 : 1234 ~ google schola 5. [학술지(정기간행물)] - Werner Kern / 1990 / / J. Electrochem. Soc 137 : 1887 ~ google schola

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