SEM 단면 시료 제작을 위한 플라즈마 이온원의 구조

원종한; 장동영; 박만진

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자료유형: 학술저널

저자정보: 원종한 (Seoul National University of Science & Technology) 장동영 (Seoul National University of Science & Technology) 박만진 (KEMCTI)

저널정보: 한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국생산제조시스템학회지 Vol.24 No.4

발행연도: 2015.8

수록면: 400 - 406 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2015

SEM 단면 시료 제작을 위한 플라즈마 이온원의 구조

원종한 , 장동영 , 박만진 한국생산제조학회지 2015.08 학술저널

2014

단면 시료 제작을 위한 플라즈마 이온원 연구

원종한 나노IT융합프로그램 2014.01 학위논문

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This study researched the structure of the source of an ion milling machine used to fabricate a scanning electron microscope (SEM) sample. An ion source is used to mill out samples of over 1 mm dimension using a broad ion beam to generate plasma between the anode and cathode using a permanent magnet. To mill the sample in the vacuum chamber, the ion source should be greater than 6 kV for a positive ion current over 200 μA. To discover the optimum operating conditions for the ion miller, the diameter of the extractor, anode shape, and strength of the permanent magnet were varied in the experiments. A silicon wafer was used as the sample. The sputter yield was measured on the milled surface, which was analyzed using the SEM. The wafer was milled by injecting 1 sccm of argon gas into the 0.5 mTorr vacuum chamber.

#Ion source #Plasma current #Ion beam #Scanning electron microscope #Sputter yield

참고문헌 (5)

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[학술지(정기간행물)] - Tomio, H. / 2011 / Sample Preparation Techniques for the Analysis / Japan Institute of Electronics Packaging 14 (2) : 145 ~ 149

[학위논문] - Jeong, S. J. / 2000 / A Study on TEM Specimen Preparation of Multilayer Materials by Mechanical Polishing / Master / Korea Advanced Institute of Science and Technology

[단행본] - Alfred, G. / 2003 / Cold plasma in Materials Fabrication / Cheong- moongak

[단행본] - Yang, S. H. / 2006 / Plasma electronics / Kyohaksa

[인터넷자원] - Thermo Fisher Scientific Inc / / Monatomic depth profiling - Sputter yield

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