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저자정보
이재헌 (성균관대학교) 정명선 (목원대학교) 이성상 (목원대학교) 조근태 (성균관대학교)
저널정보
한국지식재산연구원 지식재산연구 지식재산연구 제11권 제2호
발행연도
2016.6
수록면
223 - 246 (24page)
DOI
10.34122/jip.2016.06.11.2.223

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특허는 기술시장을 통해 거래가 이루어지는 기술상품 중에서 가장 비중이 크며, 출원 공개와 인용 등을 통해서 후속 연구개발에 영향을 주는 중요한 자산이다. 본 연구에서는 시장 영역에서의 확산(기술이전), 기술영역에서의 확산(특허 인용)이라는 양 측면에서 특허의 서지적 특성과 질적 특성이 확산 성과에 미치는 영향을 실증분석하였다.
분석결과 특허의 서지적 특성(청구항 수, 해외특허 수)과 질적 특성(기술성등급)이 기술 및 시장 영역에서의 확산 성과에 모두 양(+)의 영향을 미치는 것으로 나타났으며, 출원 연도는 기술 영역에서의 확산 성과에는 음(-)의 영향, 시장 영역에서의 확산 성과에는 양(+)의 영향을 미치는 것으로 분석되었다.
본 연구의 의의는 다음과 같다. 첫째, 특허의 질과 관련이 있는 특성들이 시장 및 기술 영역 모두에서 확산 성과에 영향을 미친다는 것을 실증적으로 확인하였다. 둘째, 특허평가 시스템에 따라 얻어진 등급평가 결과를 직접적으로 활용함으로써 특허의 질적 특성이 확산 성과에 미치는 영향을 보다 명확하게 분석하였다. 셋째, 발명의 권리화 과정에 대한 투자 증대가 연구개발 성과물의 기술적, 경제적 확산 성과 제고에 기여할 수 있다는 것을 확인하였다.

목차

초록
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 선행연구
Ⅲ. 연구모형 및 데이터
Ⅳ. 실증분석 결과
Ⅴ. 결론
참고문헌

참고문헌 (26)

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