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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김진범 (인천대학교 기계공학과) 홍필기 (인천대학교 기계공학과) 서태일 (인천대학교 기계공학과) 손창우 (인천대학교 기계공학과)
저널정보
한국금형공학회 한국금형공학회지 한국금형공학회지 제13권 제1호
발행연도
2019.1
수록면
13 - 18 (6page)

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The size and prospects of the domestic semiconductor equipment market are increasing every year. In the case of various parts used inside semiconductor equipments, high durability such as high strength and abrasion resistance is demanded. Particularly, the gases used in semiconductor production processes are toxic. In order to prevent such toxic gas leakage, a precision processing technique and a surface treatment technique for preventing corrosion are required. Electro-polishing is an electro-chemical method of polishing a metal surface to make it smooth and polished. Electro-polishing is mainly used in the finishing process of metal surface. Unlike mechanical polishing, electro-polishing is used in many fields, such as fine chemical etching equipment, since no damaged layer or burr, fine polishing groove and particles are generated. However, in order to withstand the gas used in the semiconductor equipment, the parts must have high corrosion resistance. However, the surface hardness generally become lowered through electro-polishing. Therefore, in this study, surface hardness were experimentally observed before and after electro-polishing. Then, a method of improving hardness by preparing a nitrided layer by plasma ion nitriding treatment.

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