반도체 PR 공정의 인화성 물질 누출 빈도분석을 통한 위험성 평가

박명남; 천광수; 이진석; 신동일

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자료유형: 학술저널

저자정보: 박명남 (명지대학교) 천광수 (금강유역환경청) 이진석 (지엘환경기술) 신동일 (명지대학교)

저널정보: 한국가스학회 한국가스학회지 한국가스학회지 제25권 제5호

발행연도: 2021.10

수록면: 1 - 10 (10page)

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반도체 Photo Resist (PR) 자동화 장비는 여러 인화성 물질을 혼합하여 사용하며, 인화성 물질이 공정 중 누출되는 경우 다양한 사고로 이어질 수 있어 위험성 평가가 필요하다. 본 연구는 PR 자동화 장비에서 사용되는 Acetone, PGMEA의 누출 빈도와 이러한 누출이 화재 사고로 이어질 수 있는 빈도를 빈도분석 방법을 통해 분석하였으며, 현 설비의 추가적인 위험성 경감 조치의 필요성을 평가하였다. IOGP의 공정 누출 데이터와 점화 확률 데이터를 기반으로 누출 빈도 및 점화 확률을 도출하였으며, 이를 조합하여 실제 화재 사고의 빈도를 분석하였다. 반도체 PR 공정 중에 발생할 수 있는 물질 누출에 대한 빈도는 7.30E-03/year이며, 화재 사고는 물질이 누출되었을 때 인화점 이상의 상태로 존재하는 Acetone에 의해 발생할 수 있으며, 빈도는 1.24E-05/year의 수준으로 계산되었다. UK HSE에서 제시하는 자료에 따르면, 1.24E-05/year의 빈도로 발생하는 주요 사고에 대해서는 7명 이내의 사망자를 발생시킬 때 위험성 경감을 위한 추가 조치가 필요 없는 수준 “Broadly Acceptable”이라고 정의하고 있어, 2인 1조로 운영되는 공정의 특성상 별도의 위험성 경감 조치가 요구되지 않는다.

#semiconductor #photo resist #frequency analysis method #risk reduction

참고문헌 (7)

참고문헌 신청

Dan, S. / 2014 / Quantitative Risk Analysis of Fire and Explosion on the Top-Side LNG-Liquefaction Process of LNG-FPSO / Process Safety and Environmental Protection 92(5):430~441

강수진 / 2017 / 냉동제조 시설의 암모니아 누출사고 위험 분석 / 한국가스학회지 21(1):43~51

Kodoth, M. / 2020 / Leak Frequency Analysis for Hydrogen-based Technology Using Bayesian and Frequentist Methods / Process Safety and Environmental Protection 136:148~156

Boggs, A. / 1989 / A Comparative Risk Assessment of Casting Solvents for Positive Photoresist / Applied Industrial Hygiene 4(4):81~87

Huang, S. / 2019 / Health Risk Assessment of Photoresists Used in an Optoelectronic Semicon ductor Factory / Risk Analysis 39(12):2625~2639

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