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Abstract
1. 서론
2. 가공 메커니즘
3. 실험방법
4. 실험결과
5. 결론
참고문헌
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식각액에 따른 용융실리카의 레이저 습식 식각가공
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2004 .05
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2018 .11
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화학공학
2012 .01
레이저습식각을 이용한 용융실리카의 미세구멍가공
대한기계학회 춘추학술대회
2003 .04
KrF 엑시머 레이저를 이용한 용융실리카의 미세 습식 식각가공
소성·가공
2002 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화
전기전자재료학회논문지
2012 .01
모바일 디스플레이용 유리 기판의 미 식각부 두께 최소화를 위한 습식식각 공정조건 최적화
한국기계기술학회지
2015 .01
플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )
전자공학회논문지
1987 .01
플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
레이저 유도 열화학 습식에칭을 이용한 티타늄 미세구조물 제조
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
2004 .04
스퍼터링 증착 조건에 따른 금속 박막의 습식 식각율
한국정보통신학회논문지
2010 .06
이방성 식각용액인 TMAH에 의한 Si 습식 식각
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
레이저 유도에칭을 이용한 티타늄 미세채널 제조
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2004 .10
N2H2-H2O용액의 { 100 } Si에 대한 최적식각조건의 설정과 전기화학적 식각에의 응용 ( Establishment of Optimal { 100 } Si Etching Condition for N2H4-H2O Solutions and Application to Electrochemical Etching )
전자공학회논문지
1989 .11
선택적 습식식각을 이용한 나노복합구조물 제작 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2016 .05
SF6, C₄F8, O₂ 가스 변화에 따른 실리콘 식각율과 식각 형태 개선
전기전자재료학회논문지
2008 .01
Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성
화학공학
2009 .01
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