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Low Temperature Etching of Resist for Sub-Half Micron Patterning
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
W Etching for Sub-half Micron using the Helicon High Density Plasma
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
고밀도 플라즈마를 이용한 contact hole 식각에서 공정 변수에 따른 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2006 .07
박형 웨이퍼에 적용가능한 건식 및 습식 식각에 대한 연구
한국태양에너지학회 학술대회논문집
2018 .11
플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )
전자공학회논문지
1987 .01
높은 종횡비의 Contact 식각공정에서 발생하는 왜곡현상 개선에 관한 연구
한국정밀공학회 학술발표대회 논문집
2014 .05
플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
MEMS기반 에너지 하베스터 제작을 위한 실리콘 KOH 식각 모형화
전기전자재료학회논문지
2012 .01
염화제이철 수용액에 의한 스테인레스 강판의 식각에 관한 연구
화학공학
2012 .01
N2H2-H2O용액의 { 100 } Si에 대한 최적식각조건의 설정과 전기화학적 식각에의 응용 ( Establishment of Optimal { 100 } Si Etching Condition for N2H4-H2O Solutions and Application to Electrochemical Etching )
전자공학회논문지
1989 .11
Sub-Half Micron Optical Lithography with dry Development
대한전자공학회 워크샵
1989 .01
Deep sub-micron CMOS의 소자고립을 위한 Shallow Trench 식각공정에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
SF6, C₄F8, O₂ 가스 변화에 따른 실리콘 식각율과 식각 형태 개선
전기전자재료학회논문지
2008 .01
모바일 디스플레이용 유리 기판의 미 식각부 두께 최소화를 위한 습식식각 공정조건 최적화
한국기계기술학회지
2015 .01
식각액에 따른 용융실리카의 레이저 습식 식각 특성 비교 연구
소성·가공
2004 .04
Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성
화학공학
2009 .01
Fabrication of Sub-Half Micron PMOS Device
대한전자공학회 학술대회
1992 .01
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