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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Hong Tak Kim (Yeungnam University) Thao Phoung Ngoc Nguyen (Yeungnam University) Chinho Park (Yeungnam University)
저널정보
한국태양광발전학회 Current Photovoltaic Research Current Photovoltaic Research (CPVR) Vol.3 No.4
발행연도
2015.12
수록면
112 - 115 (4page)

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In this study, the surface of ITO films was modified using N₂-O₂ molecular plasma, and the effects of oxygen concentration in the plasma on the ITO surface properties were investigated. Upon plasma treatment of ITO films, the surface roughness of ITO films seldom changed up to the oxygen concentration in the range of 0% to 40%, while the roughness of the films slightly changed at or above the oxygen concentration of 60%. The contact angle of water droplet on ITO films dramatically changed with varying oxygen concentration in the plasma, and the minimum value was found to be at the oxygen concentration of 20%. The plasma resistance at this condition exhibited a maximum value, and the change of resistance showed an inverse relationship compared to that of contact angle. From these results, it was conjectured that the chemical reactions in the sheath of the molecular plasma dominated more than the physical actions due to energetic ion bombardment, and also the plasma resistance could be used as an indirect indicator to qualitatively diagnosis the state of plasma during the plasma treatment.
#Indium tin oxide (ITO) #Molecular plasma #Nitrogen #Oxygen #Surface damage

목차

ABSTRACT
1. Introduction
2. Experimental Details
3. Results and Discussion
4. Conclusions
References

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