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신기원 (광운대학교 전자바이오물리학과) 이환희 (광운대학교 전자바이오물리학과) 권희태 (광운대학교 전자바이오물리학과) 김우재 (광운대학교 전자바이오물리학과) 서영철 (영신알에프[주]) 권기청 (광운대학교 전자바이오물리학과)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제17권 제2호
발행연도
2018.1
수록면
16 - 19 (4page)

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The development speed of semiconductor and display device manufacturing technology is growing faster than the development speed of process equipment. So, there is a growing need for process diagnostic technology that can measure process conditions in real time and directly. In this study, a plasma diagnosis was carried out using impedance variation due to the plasma discharge. Variation of the measurement impedance appears as a voltage change at the reference impedance, and the plasma density is calculated using this. The above experiment was conducted by integrating the plasma diagnosis system and the linear atmospheric pressure DBD plasma source. It was confirmed that plasma density varies depending on various parameters (gas flow rate, $Ar/O_2$ mixture ratio, Input power).

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